Fotoelektros gamybos srityje plazminis{0}}patobulintas cheminis garų nusodinimas (PECVD) vaidina lemiamą vaidmenį. Daugelio PECVD procesų esmė yra grafito valtis – pagrindinis komponentas, kuris daro didelę įtaką nusodinimo proceso kokybei ir efektyvumui. Kaip pirmaujantis PECVD Graphite Boat tiekėjas, manęs dažnai klausia apie PECVD grafito valties spinduliuotę, todėl šiame tinklaraščio įraše siekiu šiek tiek paaiškinti šią svarbią temą.
Emisyvumo supratimas
Prieš gilinantis į PECVD grafito valties spinduliuotę, būtina suprasti, kas yra spinduliuotė. Emisija (ε) yra medžiagos gebėjimo skleisti šiluminę spinduliuotę matas, palyginti su tobulu spinduliuote, vadinamu juoduoju kūnu. Juodojo kūno spinduliavimo koeficientas yra 1, o tai reiškia, kad jis skleidžia didžiausią galimą tam tikros temperatūros spinduliuotę. Priešingai, medžiagos, kurių spinduliavimo koeficientas yra mažesnės, skleidžia mažiau spinduliuotės.
Spinduliavimas yra bematis dydis, kuris svyruoja nuo 0 iki 1. Jis priklauso nuo kelių veiksnių, įskaitant medžiagos paviršiaus savybes, temperatūrą ir spinduliuotės bangos ilgį. Pavyzdžiui, lygus, poliruotas paviršius paprastai turi mažesnę spinduliuotę nei grubus, oksiduotas paviršius. Be to, spinduliuotė gali kisti priklausomai nuo temperatūros, nes medžiagos atominė ir molekulinė struktūra gali keistis dėl šiluminės energijos.
Grafito spinduliuotė
Dėl puikaus šilumos ir elektros laidumo bei aukštos lydymosi temperatūros grafitas yra gerai-žinoma medžiaga, naudojama aukštoje-temperatūroje. Grafito spinduliuotę įtakoja jo kristalinė struktūra, paviršiaus apdaila ir priemaišos. Paprastai infraraudonųjų spindulių srityje grafito spinduliuotė svyruoja nuo 0, 8 iki 0, 95, o tai yra bangos ilgių diapazonas, susijęs su daugeliu PECVD procesų.
Dėl didelio grafito spinduliavimo jis yra ideali medžiaga PECVD grafito valtims. PECVD proceso metu grafito valtis įkaista iki aukštų temperatūrų, o jos gebėjimas efektyviai skleisti šiluminę spinduliuotę padeda išlaikyti tolygų temperatūros pasiskirstymą ant valties esančiuose substratuose. Šis vienodumas yra labai svarbus norint užtikrinti nuoseklų plėvelės nusodinimą ir aukštos-kokybės fotovoltinius elementus.
Veiksniai, turintys įtakos PECVD grafito valties spinduliuotei
Paviršiaus apdaila
PECVD grafito valties paviršiaus apdaila turi didelę įtaką jos spinduliuotei. Šiurkštus paviršius su mikroskopiniais nelygumais padidina spinduliuotei skirtą paviršiaus plotą, todėl spinduliuotė yra didesnė. Priešingai, lygus, poliruotas paviršius sumažina efektyvų paviršiaus plotą ir sumažina spinduliuotę. Kaip PECVD Graphite Boat tiekėjas, mes atidžiai kontroliuojame savo valčių paviršiaus apdailą, kad optimizuotume jų spinduliavimą įvairioms PECVD reikmėms.
Oksidacija
Grafitas yra linkęs oksiduotis aukštoje temperatūroje, ypač esant deguoniui. Oksidacija gali pakeisti grafito valties paviršiaus savybes, todėl gali padidėti spinduliuotė. Grafito paviršiuje susidaręs oksido sluoksnis turi skirtingą kristalų struktūrą ir sudėtį nei apatinis grafitas, o tai turi įtakos jo gebėjimui skleisti spinduliuotę. Siekdami sumažinti oksidacijos poveikį, naudojame pažangias dengimo technologijas, kad apsaugotume grafito paviršių ir išlaikytume jo spinduliavimo gebą laikui bėgant.
Priemaišos
Grafitinėje medžiagoje esančios priemaišos taip pat gali turėti įtakos jos spinduliuotei. Tam tikros priemaišos gali sugerti arba išsklaidyti spinduliuotę, sumažindamos bendrą medžiagos spinduliuotę. Gamybos procese naudojame didelio-grynumo grafito medžiagas ir griežtas kokybės kontrolės priemones, kad sumažintume priemaišų buvimą PECVD grafito valtyje.
Emisijos svarba PECVD procesuose
PECVD grafito valties spinduliuotė yra labai svarbi dėl kelių priežasčių. Pirma, tai turi įtakos temperatūros pasiskirstymui PECVD kameroje. Didelės ir vienodos spinduliuotės grafito valtis gali efektyviau perduoti šilumą pagrindams, užtikrinant, kad visi substratai būtų įkaitinti iki vienodos temperatūros. Šis vienodumas yra būtinas norint užtikrinti nuoseklų plėvelės nusodinimą ir išvengti fotovoltinių elementų savybių pokyčių.
Antra, spinduliuotė turi įtakos PECVD proceso energijos vartojimo efektyvumui. Didelės spinduliuotės grafito valtis gali skleisti daugiau šiluminės spinduliuotės esant tam tikrai temperatūrai, todėl sumažėja energijos kiekis, reikalingas norimai temperatūrai kameroje palaikyti. Tai ne tik taupo energiją, bet ir sumažina PECVD sistemos eksploatavimo išlaidas.
Mūsų PECVD grafito valčių sprendimai
Kaip profesionalus PECVD grafito valčių tiekėjas, siūlome platų grafitinių valčių asortimentą su optimizuotu spinduliavimu įvairioms PECVD reikmėms. Mūsų valtys yra pagamintos iš didelio-grynumo grafito medžiagų ir gaminamos naudojant pažangias apdirbimo ir dengimo technologijas, kad būtų užtikrintas didelis spinduliavimas, vienodumas ir ilgaamžiškumas.
Be PECVD grafito valties, mes taip pat tiekiame įvairius grafito komponentus ir grafito dvipolius plokštes, skirtus fotoelektros pramonei. Mūsų gaminiai sukurti taip, kad atitiktų aukščiausius kokybės standartus ir yra plačiai naudojami pirmaujančiose fotoelektros gamybos įmonėse visame pasaulyje.
Susisiekite su mumis dėl pirkimų ir konsultacijų
Jei jus domina mūsų PECVD grafito valtis, grafito komponentai arba grafito dvipolio plokšte arba turite klausimų apie mūsų gaminių spinduliuotę, nedvejodami susisiekite su mumis. Mūsų patyrusi pardavimų komanda yra pasirengusi suteikti jums išsamią informaciją apie gaminį ir techninę pagalbą. Nekantraujame aptarti jūsų konkrečius reikalavimus ir bendradarbiauti su jumis, kad pasiektume jūsų fotovoltinės gamybos tikslus.
Nuorodos
Incropera, FP ir DeWitt, DP (2002). Šilumos ir masės perdavimo pagrindai. Johnas Wiley ir sūnūs.
Touloukian, YS ir DeWitt, DP (1972). Šiluminės spinduliuotės savybės. TFI / plenumas.